Influence de la vapeur d'eau au cours de l'oxydation du Zircaloy-4 à 500°C. Détermination des contraintes de croissance par diffraction des rayons X. - Université Clermont Auvergne Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Influence de la vapeur d'eau au cours de l'oxydation du Zircaloy-4 à 500°C. Détermination des contraintes de croissance par diffraction des rayons X.

Résumé

A key parameter for the understanding the effect of water vapour on the oxidation mechanism is the determination of the stress level in the zirconia scale formed on Zircaloy-4 (Zy-4) at the operating temperature. In order to provide an accurate description of the structure and microstructure of the oxide layers, X-ray diffraction (XRD) analyses have been performed in situ under dry and wet oxidizing environments at high temperature on Zy-4 flat sheet samples. The aim of the present work is to show the influence of water vapour on the stress developed at high temperature in the oxide scale as well as inside the alloy. In situ growth stress determination in the oxide scale has shown that the compressive stress is larger in dry air compared to the wet air environment at 500 °C. In wet air, the lower growth stress is due to stress relaxation after the pre-transition stage. This is related to the effect of water vapour on the zirconia chemical state and change in the oxide mechanical properties leading to an earlier scale cracking.
La détermination du niveau de contrainte dans la couche de zircone et dans le substrat Zircaloy-4 (Zy-4) à la température de fonctionnement est un paramètre important pour la compréhension de l'effet de la vapeur d'eau sur le mécanisme d'oxydation. La diffraction des rayons X (DRX) in situ dans des environnements oxydants secs et humides à haute température sur les échantillons de Zy-4 a été utilisée afin de fournir une description précise de la structure et de la microstructure des couches d'oxyde. Le but de ce travail est de montrer l'influence de la vapeur d'eau sur les contraintes de croissance développées à haute température dans la couche d'oxyde.
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2018 11 12 Résumé ETENDU HB MetAv Nancy 2019 (FR).pdf (259.32 Ko) Télécharger le fichier
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hal-02303202 , version 1 (02-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02303202 , version 1

Citer

Henri Buscail, Raphaël Rolland, Christophe Issartel. Influence de la vapeur d'eau au cours de l'oxydation du Zircaloy-4 à 500°C. Détermination des contraintes de croissance par diffraction des rayons X.. La Métallurgie Quel Avenir !, Apr 2019, NANCY, France. ⟨hal-02303202⟩

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