Rigorous electromagnetic simulation of EUV masks: influence of the absorber properties - Université Clermont Auvergne Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2001

Rigorous electromagnetic simulation of EUV masks: influence of the absorber properties

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00490483 , version 1 (08-06-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00490483 , version 1

Citer

P. Schiavone, G. Granet, J.y Robic. Rigorous electromagnetic simulation of EUV masks: influence of the absorber properties. Microelectronic Engineering, 2001, pp.vol. 57-58, 497. ⟨hal-00490483⟩
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