Rayleigh method applied to the EUV lithography simulation - Université Clermont Auvergne Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue SPIE'03 Année : 2003

Rayleigh method applied to the EUV lithography simulation

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00387528

Soumis le : lundi 25 mai 2009-15:42:33

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:13

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00387528 , version 1 (25-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00387528 , version 1

Citer

M. Besacier, P. Schiavone, G. Granet, V. Farys. Rayleigh method applied to the EUV lithography simulation. SPIE'03, 2003, SPIE'03, vol. 5037, pp822-830. ⟨hal-00387528⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA PRES_CLERMONT CNRS FMNT LTM LITHOGRAPHY
70 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More